光刻胶
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、溶剂和其他助剂。
产品概述
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、溶剂和其他助剂。
产品特点
树脂是光刻胶的骨架，bbin宝盈光刻胶以自产树脂为基体，具有以下优势：
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耐刻蚀性好：采用公司自产光刻胶用树脂，耐强酸刻蚀时间≥2400sec。
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性价比高：自产树脂，成本优势。
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工艺窗口宽：产品适应性强，工艺窗口宽。
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环保：使用酚醛树脂体系和水性显影液。
应用领域
目前主要应用于GPP（玻璃钝化保护层元器件）、LED芯片、显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工领域。
品质与服务
产品咨询
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